Сообщение от pax
Пробовал я на XNA делать, даже статья по этому поводу есть. Конечно производительность при использовании большого количества небольших точечных источников это неплохо. Проблема то в том, что при таком подходе можно приобрести проблемы с материалами. Normal Mapping это хорошо, но например прозрачные модели придется отрисовывать в обычном виде, т.е. FL. Частицы - тоже так же, рисовать отдельно используя полученный буфер глубины. Модели с нестандартными материалами - рисовать в обычном режиме после прохода DL.
Тут необходимо все взвесить перед принятием такого решения. Плюс открытые пространства для отложенного освещения не очень подходят.
|
Включаем запись GBuffer( +этот проход как амбиент pass,в нем и применяем свои крутые матереалы )
- Рисуем Solid объекты
- Рисуем Transparent объекты
Выключаем запись в GBuffer
- Пасс DL( c блендом ONE,ONE и отключеным Z Test,Z Write)
- Рисуем прозрачные объекты( c блендом SRC_ALPHA,INV_SRC_ALPHA и с отключеным Z Write )
- PROFIT!
Вся фишка DL в том что освещение не зависит от кол-во поликов в кадре,так что фраза "Плюс открытые пространства для отложенного освещения не очень подходят" - оджиг.